研究施設・研究設備
HRC・104研究室 材料評価研究室��- 104研究室には蛍光Ｘ線分析装置と強力Ｘ線源を備えたＸ線回折装置が設置されています。蛍光Ｘ線分析装置で材料の化学組成を分析し、Ｘ線回折装置で試料中の相の同定や結晶構造の解析を行います。強力Ｘ線源を用いていますので迅速な測定が可能です。
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設備名称：Ｘ線回折装置
Ｘ線回折装置RIT 2000は、材料の結晶相の定性および定量分析、そして結晶構造の解析を行う装置で、高分子やセラミックス等様々な形態の試料の分析を行うことができます。そのため汎用性が高く本センターでも最も使用頻度が多い装置の一つで、たくさんの研究室で用いています。本装置は第一期のHRCプロジェクトで導入した装置で、10年以上が経過していますが、１年に２回保守点検を行うことで、高い信頼性を確保しています。
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設備名称：蛍光Ｘ線分析装置
蛍光Ｘ線分析装置RIX 2000は、材料の化学組成を定性および定量分析する装置で、粉末やセラミックス等様々な形態の試料の分析に用いています。そのため汎用性が高く、たくさんの研究室で用いています。本装置は第一期のHRCプロジェクトで導入した装置で、10年以上が経過していますが、１年に２回保守点検を行うことで、高い信頼性を確保しています。
- HRC・105研究室 材料評価研究室��
- 105研究室には材料評価を行うための特性分析装置が各種設置されています。特に、粉体および固体密度の測定、機械的強度（硬さ、曲げ強度、破壊靱性）の測定、比熱や熱拡散係数の測定、ゼーベック係数や電気伝導の測定を行っています。また、試料作製を行うための研磨装置も併設されています。
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設備名称：ゼーベック係数測定装置
本装置は、アルバック理工社製の電気特性を評価する装置(ZEM-1)です。半導体領域の電気伝導性を有する試料であれば、室温から1000℃までの温度領域でVI特性、電気伝導性、ゼーベック係数の測定が可能です。半導体や、熱電変換素子の特性評価に威力を発揮します。現在、作製したC系、SiC系焼結体の電気特性の評価に用いています。
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設備名称：熱伝導測定装置
本装置は、アルバック理工社製のレーザーフラッシュ型熱伝導度測定装置(TC-7000)です。レーザー照射時の温度上昇値から比熱を、非照射面の温度上昇開始時間から熱拡散係数をそれぞれ測定し、それらと密度から熱伝導度を計算します。また、試料切り出し方向によって異なる熱伝導性を示す試料の配向評価にも用いることが出来ます。現在では、C系、SiC系、BN系焼結体の熱伝導性の評価に用いています。
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設備名称：ビッカース硬度試験機
本装置は、島津製作所製のセミビッカース(HSV-20)・マイクロビッカース(HMV-2000)硬度計からなり、最大荷重が196N、19.6Nとなっています。この装置は主にセラミックス材料の硬度評価に用いています。
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設備名称：万能試験機
本装置は、丸菱科学機械製作所社製の引張圧縮試験機(PL-300)です。主に、曲げ強度や応力歪曲線の測定に用います。持具を交換することにより、三点曲げおよび四点曲げ両方の試験を行うことが出来ます。主に、セラミックス材料の曲げ強度の測定に用いています。
- HRC・107研究室 ポスドク等研究員室
- 107研究室は本センター専属博士研究員の研究員室となっています。共同研究者等にも解放されています。
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- HRC・108研究室 材料合成研究室��
- 108研究室は主に材料合成や各種実験の準備等を行っています。誘導場活性化合成装置を用いて材料の合成を行います。また、ナノ材料を用いる場合、雰囲気条件が大変重要になり、そのために、酸素濃度が数ppmに制御された大型グローブボックスが設置してあります。
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設備名称：大型雰囲気制御型グローブボックス
本装置は、UNICO製の大型グローブボックスです。4人が同時に扱うことの出来る大型装置で、不活性ガス循環精製装置との組み合わせることにより、装置内雰囲気中の酸素濃度が数ppm以下、水分濃度が10ppm以下に制御されています。雰囲気の敏感なナノ材料のハンドリング、合成容器内への封入、取り出し等を行っています。現在は、主にナノ粉体(水素吸蔵材料やSiC系、C系)の試料調整に用いています
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設備名称：誘導場活性化合成装置
本装置は、大柳研究室にて作成した誘導場活性化合成装置です。誘導加熱を行うことで簡便かつ短時間での材料合成が可能となります。第一期プロジェクトから用いられており、燃焼合成反応を用いた新規材料の創製や低環境型材料作成に関する研究に用いています。また、アルミニウムドロスの再資源化や、高級耐火物材料の作成などにも応用展開しています。現在は、こちらの大型機が耐火物製造企業にて稼動しています。
- HRC・109研究室 材料合成研究室��
- 109研究室では、材料合成や焼結を行っています。パルス通電型焼結装置を用いることで各種材料の合成および焼結を行っています。また、直接通電が材料の合成及び焼結におよぼす影響も研究しています。
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設備名称：パルス通電型焼結装置
本装置は、SPSシンテックス社製のDr.Sinter: SPS-1050で、黒鉛型および試料へ直接パルス通電することで加熱および加圧を同時に行う装置です。最大電流値は5000A、最大加圧は100kNとなっており、パルス形状を変更することも可能です。第二期プロジェクト時に購入しておりますが、日常の点検、年二回の保守契約点検を行うことで良好な条件で実験を行うことが出来ます。ナノセラミックスや難焼結性材料の作製に大変有効な装置です。
HRC・201研究室 プロジェクト共同研究室��- 201研究室では、遊星ボールミル用いた粉末作製、水素吸蔵溶出特性装置や水素DSC等を用いた水素吸蔵合金に関する研究を行っています。
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設備名称：ガス吸着特性評価装置
本装置は、島津製作所社製のトライスター3000です。本装置では、ガス吸着量や、BET法による比表面積、細孔分布の測定等を行っております。非常に微細な粒径や細孔を有する材料の評価に威力を発揮します。使用ガスは窒素、ヘリウム、水素です。主に、SiC系やBN系、C系等のナノ粉末の評価に用いています。
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設備名称：遊星ボールミル
本研究室にはフリッチュ社製遊星型ボールミルを5台(P-4×1、P-5×3 、P-6×1)設置してあります。これらの装置を用いることで、ナノ材料の作製を簡便に行うことが出来ます。オーバポットも併設してあり、雰囲気制御下でボールミル処理を行うことが可能です。SiC系、C系、BN系、水素吸蔵合金系の試料粉末作製に用いています。また、P-6は自転公転比を変えることが可能であるため、各種条件を変更することによる遊星ボールミルの最適条件の検討を行っています。
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設備名称：雰囲気制御型グローブボックス
本装置は、UNICO製のグローブボックスです。不活性ガス循環精製装置との組み合わせることにより、装置内雰囲気中の酸素濃度が数ppm以下、水分濃度が5ppm以下に制御されています。雰囲気の敏感なナノ材料のハンドリング、合成容器内への封入、取り出し等を行っています。現在は、主にナノ粉体(水素吸蔵材料やSiC系、C系)の試料調整に用いています
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設備名称：水素吸蔵合金特性評価装置
本装置は、鈴木商館社製のジーベルツ型水素吸蔵合金特性評価装置です。水素吸蔵量、水素吸蔵・放出の圧力、速度、温度を測定することが可能であり、最大水素圧力は10MPaです。最大5MPa水素中で測定可能なDSCを併設し、熱的特性も分析可能です。水素供給自動停止装置、地震計、水素センサー、強制排気装置等が組み込まれ安全性に考慮した設計になっています。
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設備名称：高圧ガス燃焼合成装置
本装置は、本研究室にて設計した高圧ガス燃焼合成装置です。各種ガス(アルゴン、窒素、酸素、一酸化炭素、ヘリウム等)5MPa下にて燃焼合成を行います。一酸化炭素の固定化につながる研究などを行っています。
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設備名称：水素吸蔵合金特性評価装置(熱分析部)
本装置は、水素吸蔵合金特性評価装置内の高圧水素DSCです。水素吸蔵・放出時の熱量収支や吸蔵放出サイクル特性等を、最高5MPaの水素雰囲気下で測定することが可能です。水素供給自動停止装置、地震計、水素センサー、強制排気装置等が組み込まれ安全性に考慮した設計になっています。